氣相沉積爐
cjl
設備用途：
利用真空蒸鍍方式生產硅的氧化物；
適用于氧化亞硅等可氣相沉積材料大批量生產；溫差控制精度高，高溫高真空；具備高真空升華，反應，脫脂，脫水，氣相沉積材料自動研磨刮料，爐內收集等特殊工藝能力。
設備特點：
一次裝料量大， 生產效率高。
全程全封閉全自動化作業，避免粉塵飛揚，生產現場環境整潔干凈。
溫度控制1500度以內，升溫速率快。
可以在真空度下保持穩定運行工作。
設備參數：
湘公網安備 44010602001449號 
